韩国知识产权最新动态

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在利用优先审查制度方面的诸多不便。

　　即将于2006年10月1日正式实施的新优先审查制度将适用范围扩大至所有实用新型申请，并规定如申请人在提交实用新型申请时申请普通审查，可于2个月内重新申请优先审查，且无须提交其他任何附加文件。此外，为帮助申请人节约开支，KIPO已于2006年5月1日在实用新型优先审查制度中引入固定最低费率，取消原先请求优先审查须缴纳的附加费，将费用固定为16.7万韩元(约合177美元)。(谢静)

相关数据

韩国显示器外观设计申请九成涉及集成信息产品

　　据KIPO最新统计，近年来，韩国与集成信息产品相关的显示器外观设计申请量显著上升。
显示器外观设计自2003年7月1日起可获得KIPO授予的专利权，当年申请量即达184件；2004年高达412件，同比增长124%；2005年为511件，同比上升24%；2006年1至4月已达218件。从发展趋势预测，2006年度将达到650件，预计同比增长27%。

　　KIPO商标及外观设计审查局审查员PARK Shi Deuk表示，显示器外观设计不仅包括屏幕等实际显示设备，还包括所有有助于提高控制效率的带有显示屏的产品。KIPO近年受理的此类申请涉及领域十分广泛，包括家用电器、录音录像设备、游戏机、汽车导航装置、厨房用具和家庭网络系统等。从技术领域来看，大多数显示器外观设计申请都集中在信息/通信设备领域，例如移动电话。截止2006年4月，韩国受理的1,325件显示器外观设计申请中，1,191件与集成信息产品有关。专家认为，这与信息通信产业的迅猛发展和广泛渗透密不可分，显示器外观设计已成为指引集成信息产品发展的风向标。 (李昭)

韩国曝光设备专利申请显著增长

　　近日，KIPO就近21年来韩国、美国和日本在曝光设备核心技术领域的专利申请进行趋势分析，结果表明：韩国国内相关专利申请量显著上升，扭转了韩国过去在该领域表现不够活跃的局面。

　　随着半导体芯片体积的不断缩小和容积的不断扩大，微小的电路图上需要更高密度的曝光设备。近21年来，韩国、美国和日本在半导体和显示器领域向KIPO提交的曝光设备申请量共计4,804件(美国为授权量)。按技术领域划分，所有申请中约48% (2,342件)与产生、集中或反射光亮的装置相关；30% (1,438件)与置于光学仪器目镜中标线片相关；17% (803件)与感光版相关；5% (223件)与边缘曝光技术相关。总而言之，三国中以日本表现最佳，尤其是在产生、集中或反射光亮的装置方面，这仰赖于日本相关企业(如尼康和佳能公司)的不俗表现。

　　纵观2001-2005年间的申请总量，韩国占31.8% (475件)，美国占36.8% (549件)，日本为31.4% (468件)；各国相对于历史申请量的增幅亦十分明显。

　　在韩国企业中，三星电子和韩国半导体都有大量相关专利申请，但以本国申请为主，如三星电子的国外申请仅占其全部申请的8.4%，远远低于其本国申请的91.6%。KIPO认为，为应对国外公司的技术壁垒，政府必须加大在曝光设备核心技术领域的研发和投资力度，确保技术竞争力。同时，企业也须重视并增加在国外的专利申请。(李昭)

韩国半导体领域专利申请量大幅上升

　　根据KIPO近日公布的数据，近年韩国半导体领域的专利申请量持续增长，2004年增幅为6.6%，2005年为22.9%，且国内外申请量均显著增加。

　　KIPO按照IPC分类将半导体处理技术分成曝光、淀积、清洗、蚀刻与扩散5个处理过程，结合最近3年的数据进行对比和研究后得出上述结论。根据相关数据，2005年，半导体处理技术专利申请中有35%涉及曝光过程，尽管2004年此领域的国外申请量下降18.9%，但2005年出现反弹，年增幅54.7%；涉及淀积过程的专利申请较2004年上升44.8%，为5个过程中增幅最高之领域；有关蚀刻过程的国外专利申请变化不大，而国内申请在最近两年中有显著增长，2004年与2005年增幅分别为29.4%与23.6%，这显示韩国国内半导体领域的蚀刻技术与等离子蚀刻技术同等活跃；清洗和扩散领域的专利申请增幅则相对较低。(韩志杰)

韩国企业技术能力为日本的91.4%

　　近日，韩国商工会所就“韩国企业与日本企业的技术能力水平差距”向300家韩国制造业厂商进行问卷调查，结果显示，受访企业认为：韩国企业的技术能力正在日益强大，目前已达日本的91.4%。

　　受访企业的58.9%认为，韩国目前的技术水平与日本不相上下，甚至略高。从行业来看，造船业界对国内技术能力的评价最高，认为韩国企业的技术能力达日本95.5%；石油化学业93.8%；而汽车业和机械业的自我评价则相对较低，分别为88.6%和89.7%。

　　受访企业认为，不利于本国企业提升技术能力的主要因素有：基础技术和基础研究(40.7%)；持有技术的商品化和产业化能力(14.8%)；技术人才水平和人才培养制度(13.2%)；政府支持(11.5%)；专利管理和知识产权保护(11.1%)。

　　韩国商工会所表示，韩国国内企业正在通过削减人工费用等措施，以低预算引入最新技术，缩短与日本的技术差距。但同时指出，近来各企业的技术保护意识愈发

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